真空镀膜是在真空中把真空中的钛，金，金属（导电：铝，锡，镍，不导电：铟，铟镍合金）石墨，水晶之类的金属或非金属，气体等材料利用溅射，蒸发，等离子体等技术，在基材上开成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多的优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺，对操作者无伤害，镀层牢固，膜层致密性好，均匀抗腐蚀性强及耐磨性高！

真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发，电子枪蒸发，电阻丝蒸发等）；溅射镀膜（包括直流磁控溅射，中频磁溅射，射频溅射等技术），这些方法统称为物理气相沉积（Physical Vapor Deposition),简称PVD 。

真空蒸镀法：是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。 

加热金属的方法：有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。 

在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。 

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。 

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发原材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。

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